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SiResist^?是星泰克在全球范圍的創(chuàng)新技術，首次實現了以硅作為光刻膠的主要組分。SiResist^?硅含量高達40%，可以作為bilayer光刻膠而實現深刻蝕。 SiResist^?技術適應于365nm、248nm 和193nm光刻，SUN-SiPR365a是一款i-線硅光刻膠。